真空电子技术 期刊云投稿

真空电子技术-杂志简介

    《真空电子技术》杂志创刊于1959年，经国家新闻出版总署批准成立的可公开发行的优秀期刊，主管单位：信息产业部，主办单位：北京真空电子技术研究所，国内刊号CN：11-2485/TN，国际刊号ISSN：1002-8935。ELd云投稿中心
    《真空电子技术》杂志社借助现代传媒理论和经验，利用网络信息技术和社会资源，为真空电子行业提供全方位的信息、宣传、调研、沟通服务，不断提高真空电子行业的整体形象，为促进我国真空电子行业信息、宣传、交流的市场化、专业化、集约化、规模化，以及进一步促进我国真空电子行业持续、快速、健康发展作出贡献；《真空电子技术》编辑部不断促进技术交流，加快新技术、新成果的应用和推广，交流成功经验，为真空电子行业的研、产、学、商提供交流平台，作好沟通交流工作，在国内和国际上为行业发展创造良好的舆论环境。ELd云投稿中心
    《真空电子技术》杂志主要栏目：研究与设计、综述、工艺与应用、技术交流。ELd云投稿中心

真空电子技术-收稿要求

1.内容：立意新颖，观点明确，内容充实，论证严密，语言精炼，资料可靠，能及时反映所研究领域的最新成果。本刊尤为欢迎有新观点、新方法、新视角的稿件和专家稿件。
2.格式必备与顺序：标题、作者、作者单位、摘要、关键词、正文、注释或参考文献。
3.请在来稿末尾附上作者详细通讯地址。包括：收件人所在地的省、市、区、街道名称、邮政编码、联系电话、电子信箱、代收人的姓名以及本人要求等，务必准确。论文有图表的，请保证图片和表格的清晰，能和文字对应。
4.本刊实行无纸化办公，来稿一律通过电子邮件（WORD文档附件）或QQ发送，严禁抄袭，文责自负，来稿必复，来稿不退，10日未见通知可自行处理。
5.本刊来稿直接由编辑人员审阅，疑难重点稿件送交相关专家审阅，本刊坚持“公平、公正、公开、客观”的审稿原则，实行“三审三校”制度。
6.来稿一经采用，杂志社将发出《用稿通知单》，出刊迅速，刊物精美，稿件确认刊载后，赠送当期杂志1册。

真空电子技术-投稿说明

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