中国发明与专利 期刊云投稿
中国发明与专利-杂志简介
《中国发明与专利》杂志创刊于2004年,由中华人民共和国新闻出版总署正式批准公开发行的优秀期刊,主办单位是知识产权出版社,国内刊号是:CN:11-5124/T,国际标准刊号是:ISSN:1672-6081,出版地是北京市,(2018版)复合影响因子:0.292,(2018版)综合影响因子:0.137。cWw云投稿中心
《中国发明与专利》杂志社自创刊以来,以新观点、新方法、新材料为主题,坚持"期期精彩、篇篇可读"的理念,内容详实、观点新颖、文章可读性强、信息量大,众多的栏目设置,拥有较庞大的读者群,内容丰富,专业性强,既有较高的学术性,有较强的实用性。服务对象为注重技术创新、关心知识产权战略的企业界人士、广大发明人、专利权人、项目寻求者,同时还包括广大专利界的专家学者、专利代理人以及发明创新爱好者、有创业意识和新项目的有识之士等。杂志本着弘扬创新精神、服务专利事业的办刊宗旨,制定了以发明与专利为大视点、以科技与财富为热卖点、以人文与时尚为结合点、以新闻与争鸣为切入点的采编方针。为满足广大受众要求,贯彻知识产权战略、方针、政策,普及知识产权文化,我刊于2010年进行增版,在延续原有风格的基础上,不断创新发展,突出知识产权文化。《中国发明与专利》编辑部将在组稿策划和内容编排上不断提高质量和水平。
《中国发明与专利》编辑部终坚持以马克思列宁主义、毛泽东思想和邓小平理论为指导,贯彻“百花齐放、百家争鸣”和“古为今用、洋为中用”的方针,欢迎广大读者积极投稿!
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中国发明与专利-相关评论
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